一、需求
窑炉全长34米，设计总功率为400KW，有24个温度监测点，其中15个为温区加热控制采集点，9个为温度采集显示点。温区加热部份总功率为385KW,分为15区，其中6个二相加热区和9个三相加热温区，每个控温单元分别进行可控硅温度控制。
集散控制系统可显示整个窖炉的运行状况，数据，及对窑炉的控制系统进行操作。
集散控制技术要求：
1、可选择工艺设定曲线和控温调节记录曲线，通过上位机对窑炉的管理；
2、记录窑炉的报警故障点便于查询；
3、显示窑炉的用电量数据并自动存档
二、温控系统控制方案
1、 采用我公司的KY系列一体化智能可控硅移相触发模块组合，带RS485通讯功能，作为基本功率调节单元，分别对每控温区进行温度控制，可满足0-1300℃温度范围内0.5％的控温精度。
2、 实现采用AC100-240V宽范围工作电源，使用时无须担心电源电压变化波动。
3、每区控制电路独立控制，主电路分别由空开、快速熔断器、可控硅模块冷等组成，监测及控制电路包括热电偶、智能PID温度控制模块、可控硅触发模块、等组成。与具备同等功能的电炉控制柜相比，具有最简单的线路及模块化的结构，从维护到扩充功能都十分方便。
三、集散控制系统方案
1. 整个控制系统采用现场触摸屏加办公室电脑监控，所有功能模块均带有RS485通讯接口，能方便地与计算机联机工作。所有现场参数包括实时温度，设定温度、工作电流、工作电压、系统运行状态等均在电脑上直观地显示出来。同时各种工艺参数修改如温度设定，报警参数设定、相序设定、PID参数设定等可通过现场触摸屏修改，亦可通过电脑直接操作修改。
2. 计算机组态采用MCGS上位机组态软件，并增加一个现场MCGS触摸屏监控，通过PC机，触摸屏，下位机三者环形控制，让使用更加方便，操作更加灵活安全，数据保存更加全面。
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系统总貌图
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